Son aylarda yarı iletken sektöründe geniş yankı uyandıran “Çin, ASML’nin EUV litografi makinesini kopyaladı” iddiaları, yeni bilgilerle birlikte büyük ölçüde çürütüldü. İlk etapta Çin’in, çip üretiminde kritik öneme sahip EUV (Aşırı Ultraviyole) teknolojisini tersine mühendislikle çözdüğü öne sürülmüş, bu durum küresel teknoloji dengelerini değiştirebilecek bir gelişme olarak yorumlanmıştı. Ancak sahadan gelen veriler, bu söylemlerin abartılı olduğunu ortaya koyuyor.

Kaynaklara göre Çin’de geliştirildiği iddia edilen EUV prototipi, işlevsel bir üretim sistemi olmaktan oldukça uzak. Farklı kanallardan temin edilmiş, birbiriyle tam uyumlu olmayan parçaların bir araya getirilmesiyle oluşturulan sistemin bugüne kadar tek bir çip dahi üretemediği ifade ediliyor. İkinci el ekipman pazarları ve çevrim içi yedek parça platformlarından sağlandığı düşünülen bileşenlerin, gerçek bir EUV üretim hattı oluşturmak için yeterli olmadığı vurgulanıyor.

 

Uzmanlar, bunun temel nedeninin EUV litografi teknolojisinin olağanüstü karmaşıklığı olduğuna dikkat çekiyor. ASML’nin geliştirdiği Twinscan NXE platformu, tek bir makine ya da şemadan ibaret değil. ABD, Avrupa ve Japonya merkezli binlerce tedarikçinin onlarca yıla yayılan ortak Ar-Ge çalışmasının ürünü olan bu sistem; ultra hassas optikler, yüksek vakum altyapısı, ileri seviye yazılımlar ve karmaşık kontrol mekanizmalarıyla çalışıyor.

Bu ekosistemin en kritik parçalarından biri, ASML’nin 2012 yılında bünyesine kattığı ABD merkezli Cymer tarafından geliştirilen EUV ışık kaynağı. CO₂ lazerle oluşturulan plazma üzerinden 13,5 nanometre dalga boyunda ışık üreten bu sistem, donanım kadar yazılım entegrasyonuna da bağımlı. Uzmanlara göre, fiziksel bileşenler teorik olarak kopyalansa bile, yüksek hacimli ve kararlı üretim için gerekli yazılım altyapısı olmadan sistemin çalışması mümkün değil.

 

Bir diğer aşılması güç engel ise optikler. EUV litografi makineleri, Carl Zeiss tarafından üretilen molibden-silikon çok katmanlı aynalara bağımlı durumda. Aşırı morötesi ışığı neredeyse kayıpsız yansıtabilen bu aynalar, dünyada yalnızca Zeiss tarafından üretilebiliyor. Bu seviyede bir optik teknolojinin yeniden geliştirilmesinin, malzeme bilimi ve ölçüm teknolojilerinde yıllar sürecek atılımlar gerektirdiği belirtiliyor.

ASML’nin başarısı yalnızca parçaları bir araya getirmekle sınırlı değil. Şirket, binlerce alt sistemi tek bir platformda senkronize ederek nanometre ölçeğinde hassasiyeti yüksek hızda koruyabilen benzersiz bir mühendislik yapısı kurmuş durumda. Bu bilgi birikiminin önemli bir kısmı, ASML’nin küresel tedarik zinciri ve araştırma ortakları arasında dağıtılmış durumda.

 

Öte yandan Çinli çip üreticileri tamamen çaresiz de değil. SMIC gibi şirketlerin, daha eski nesil DUV (Derin Ultraviyole) litografi sistemlerini yenilenmiş modüller ve ikinci el performans verileriyle optimize ettiği biliniyor. Bu yöntemle üretim verimliliği sınırlı ölçüde artırılabiliyor. Ancak uzmanlar, bu çözümlerin modern bir EUV platformunun sunduğu kapasite ve hassasiyetle kıyaslanamayacağını vurguluyor.

Sonuç olarak, Çin’in EUV litografi alanında büyük bir atılım yaptığı yönündeki iddiaların mevcut veriler ışığında gerçeği yansıtmadığı ifade ediliyor. Çalışan bir sistem, seri üretime geçen bir hat ya da üretilmiş bir çip bulunmazken, EUV teknolojisinin halen ASML ve onun benzersiz küresel ekosisteminin tekelinde olduğu belirtiliyor.